山西工業廢氣凈化設備工廠
隨著電子產品的應用越來越廣泛,電子設備的需求量就會在不斷的增長中,在半導體芯片生產的過程中不但會產生大量的工業污水而且還會產生具有污染性的工業廢氣,面對工廠產生的這部分工業廢氣應如何處理,本文了解關于半導體芯片生產工業的廢氣處理設備。
創清環保采用的是噴淋塔預處理+光氧催化+活性炭吸附的組合處理工藝的形式:,在經過噴淋塔預處理之后的廢氣輸入光氧催化廢氣處理設備,光氧催化設備中的高能紫外光束可以將噴漆廢氣中的惡臭氣體進行分解氧化,然而將有機廢氣講解為低分子化合物的水和二氧化碳等。
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半導體芯片加工廠的工業廢氣主要包含了硫酸霧、氟化物、氯化物、氯氣、氨氣、硫酸霧等的酸/堿廢氣以及氮氧化物、二氧化硫、非甲烷總烴等的有機廢氣,具有揮發性的VOCs以及酸堿廢氣主要來源于對芯片的清洗、均膠、去膠、刻蝕、顯影過程中產生的,這部分的廢氣濃度小且排放量大。
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制藥廠分為生物化學藥、抗生素、植物化學藥、化學合成藥等各種的合成藥劑,藥劑加工生產時產生的廢氣成分不同,除塵設備是目前市場上眾多工業會選擇采用的一種廢氣處理設備,面對制藥工業產生的大量的制藥工業廢氣處理用的是哪種處理設備?。
吸收法:吸收法分為活性炭設備和洗滌塔,其主要原理是利用其物質作為載體對鑄造廢氣進行物理吸附,活性炭設備具有比表面積大的發達的空隙,可以吸附廢氣中的有害物質,而洗滌塔是利用部分的有機廢氣溶于水與其他的有機溶劑對有機廢氣中的有機物進行吸收。
山西工業廢氣凈化設備工廠
對于電鍍、紡織(化纖)、機械制造、化工、電子、冶金、制酸、酸洗、酸蓄電池充電等工業加工制作的時候產生的硫化氫氣體(HS)、氨氣體(NH)、氣體(HCL)、氟化氫氣體(HF)、酸霧氣體(HSO)、鉻酸氣體(CRO)等酸的混合物酸霧廢氣就可以采用酸霧處理凈化吸收塔設備處理。